文献

J-GLOBAL ID：201402260231739320   整理番号：14A0756686

溶媒アニール処理によるPS-b-PMB薄膜におけるミクロ相分離構造変化

著者 (5件)： 平川篤史 (名大 院) ,  福原慶 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 94th  号： 3  ページ： 779  発行年： 2014年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 近年,ナノパターニング技術の応用として高分子ブロック共重合体のミクロ相分離構造をいかに制御するかが課題の一つとなっている。溶媒アニールという手法は溶媒の蒸発に伴う膨潤・収縮過程を経て劇的にミクロ相分離構造を変化させることで知られている。本研究では,ポリスチレンとポリメチルブチレンからなるブロック共重合体PS-b-PMBを用いて,スピンコート膜を溶媒アニール処理し,アニール前後でのミクロ相分離構造の変化ならびに配向の評価を原子間力顕微鏡(AFM)と斜入射小角X線散乱(GI-SAXS)により行った。(著者抄録)

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *ポリスチレン ,  *ポリオレフィン ,  *高分子薄膜 ,  焼なまし ,  *ミクロ相分離 ,  膨潤 ,  収縮 ,  スピンコーティング ,  顕微鏡観察 ,  小角X線散乱 ,  モルフォロジー ,  自己集合 ,  長範囲規則度 ,  表面構造 ,  指紋 ,  蒸発 ,  有機溶媒 ,  閉込め ,  アルキルベンゼン ,  脂肪族塩素化合物 ,  トリハロメタン ,  斜入射小角X線散乱 ,  表面形態 ,  溶媒蒸発 ,  原子間力顕微鏡法 ,  構造
準シソーラス用語： 原子間力顕微鏡観察 ,  フィンガープリント

分類 (2件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (2件)： トルエン ,  クロロホルム

タイトルに関連する用語 (5件)： 溶媒 ,  アニール処理 ,  PS ,  薄膜 ,  ミクロ相分離構造