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J-GLOBAL ID：201402273109983410   整理番号：14A0369516

微小角入射X線小角散乱及び広角散乱によるSiO₂薄膜中の短距離秩序性の評価

著者 (10件)： 永田晃基 (明治大 理工) ,  永田晃基 (日本学術振興会) ,  徳武寛紀 (明治大 理工) ,  長坂将也 (明治大 理工) ,  小椋厚志 (明治大 理工) ,  廣沢一郎 (高輝度光科学研究セ) ,  諏訪智之 (東北大 未来研) ,  寺本章伸 (東北大 未来研) ,  服部健雄 (東北大 未来研) ,  大見忠弘 (東北大 未来研)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 61st  ページ： ROMBUNNO.18A-D8-2  発行年： 2014年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *二酸化ケイ素 ,  *誘電体薄膜 ,  *短範囲規則度 ,  *小角X線散乱 ,  すれすれ入射 ,  X線構造解析 ,  ケイ素 ,  熱酸化 ,  結晶構造 ,  核間距離 ,  動径分布関数 ,  X線散乱 ,  *大角散乱 ,  *WAXS
準シソーラス用語： *広角X線散乱 ,  *微小角入射小角X線散乱法

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  X線回折法  (BK01020I)

タイトルに関連する用語 (8件)： 微小角入射 ,  X線小角散乱 ,  広角 ,  散乱 ,  SiO2 ,  薄膜 ,  短距離秩序 ,  評価