研究者
J-GLOBAL ID:200901066811423466   更新日: 2023年02月10日

寺本 章伸

テラモト アキノブ | Teramoto Akinobu
所属機関・部署:
職名: 教授
その他の所属(所属・部署名・職名) (1件):
  • 東北大学  未来科学技術共同研究センター   客員教授
ホームページURL (2件): http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/http://db.tohoku.ac.jp/whois/e_detail/1ec59f4a457a70c4acac497220c05f5b.html
研究分野 (2件): 電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学
研究キーワード (3件): 絶縁膜 ,  プロセス ,  半導体
競争的資金等の研究課題 (11件):
  • 2018 - 2019 超微細半導体用革新的ウェットプロセス・装置技術の開発
  • 2016 - 信頼性、再現性の高い酸化膜形成技術開発と その手法を基礎とした閾値変動のない ノーマリオフゲート構造の形成方法の構築
  • 2008 - 2013 超高性能半導体集積回路製造技術の研究開発
  • 2007 - 2009 超高感度・高分解能界面分析によるゲート絶縁膜/シリコン酸化膜の界面構造の決定
  • 2006 - 2009 超高速・超低消費電力バランスドフルCMOSシステムLSIの研究
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論文 (390件):
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MISC (90件):
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特許 (157件):
書籍 (5件):
  • Different Types of Field-Effect Transistors - Theory and Applications
    InTech 2017
  • dvances in Noise Analysis, Mitigation and Control
    InTech 2016
  • Advanced Gate Stacks for High-Mobility Semiconductors
    Springer 2007
  • Scientific Wet Process Technology for Innovative LSI/FPD Manufacturing
    Taylor & Francis 2006
  • 表面・界面工学大系基礎編 上巻
    フジ・テクノシステム 2005 ISBN:4938555956
講演・口頭発表等 (367件):
  • SiNx Deposition at Low Temperature Using UV-Irradiated NH3
    (235th ECS Meeting 2019)
  • Impact of Y-O-F Composition in Yttrium Oxyfluoride on Corrosion Resistance to Plasma Irradiation
    (5th Annual World Congress of Smart Materials 2019)
  • An Electrical Impedance Biosensor Array for Tracking Moving Cells
    (IEEE SENSORS 2018)
  • Corrosion Resistance to F and Cl plasma of Yttrium Oxyfluoride (YOF) formed by Sintering
    (AVS 65th International Symposium 2018)
  • Effects of Process Gases and Gate TiN Electrode during the Post Deposition Anneal to ALD-Al2O3 Dielectric Film
    (VS 65th International Symposium 2018)
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学歴 (3件):
  • 2000 - 2001 東北大学大学院 工学研究科 電子工学専攻
  • 1990 - 1992 東北大学大学院 工学研究科 電子工学専攻
  • 1986 - 1990 東北大学 工学部 電子工学科
学位 (3件):
  • 博士(工学) (東北大学)
  • 修士(工学) (東北大学)
  • 学士(工学) (東北大学)
経歴 (6件):
  • 2019/06 - 現在 東北大学 未来科学技術共同研究センター 客員教授
  • 2019/06 - 現在 広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所 教授
  • 2014/07 - 2019/05 東北大学 未来科学技術共同研究センター 教授
  • 2007/04 - 2014/06 東北大学 未来科学技術共同研究センター 准教授
  • 2002/04 - 2007/03 東北大学未来科学技術研究センター 助教授
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委員歴 (7件):
  • 2018/11 - 現在 2019 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ULSI DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY Program Committee
  • 2016/04 - 現在 電子デバイス界面テクノロジー研究会 実行・プログラム委員
  • 2019/07 - 2020/03 応用物理学会中国四国支部 幹事
  • 2019/07 - 2019/12 応用物理学会 先進パワー半導体分科会 先進パワー半導体分科会第6回講演会実行委員
  • 2004/07 - 2015/03 応用物理学会ゲートスタック研究会 実行・プログラム委員
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受賞 (2件):
  • 2014/09 - 応用物理学会 優秀論文賞 Chemical Structure of Interfacial Transition Layer Formed on Si(100) and Its Dependence on Oxidation Temperature, Annealing in Forming Gas, and Difference in Oxidizing Species
  • 2008/10 - 日本真空協会 日本真空協会第33回熊谷記念真空科学論文賞 X-ray Photoelectron Spectroscopic Study of Nitrogen Depth Profile in Radical Nitrided Silicon Oxynitride Film
所属学会 (6件):
The Electrochemical Society ,  電子情報通信学会 ,  IEEE ,  応用物理学会 ,  日本表面真空学会 ,  American Vacuum Society
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