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J-GLOBAL ID：201402278143024539   整理番号：14A0607433

強磁性半導体(In,Fe)As:Beの磁化過程のXMCDによる研究

著者 (13件)： 坂本祥哉 (東大 理) ,  LE Duc Anh (東大 工) ,  PHAM Nam Hai (東大 工) ,  芝田悟朗 (東大 理) ,  高橋文雄 (東大 理) ,  小林正起 (KEK) ,  竹田幸治 (JAEA) ,  山上浩志 (JAEA) ,  山上浩志 (京産大 理) ,  斎藤祐児 (JAEA) ,  小出常晴 (KEK) ,  田中雅明 (東大 工) ,  藤森淳 (東大 理)
資料名： 物構研サイエンスフェスタ要旨集
巻： 2013  ページ： 30  発行年： 2014年 
JST資料番号： L2365B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *強磁性半導体 ,  *磁化 ,  磁気円二色性 ,  ヒ化物 ,  *インジウム化合物 ,  鉄化合物 ,  ドーピング ,  ベリリウム ,  曲線 ,  *磁気ポーラロン ,  超常磁性 ,  磁化曲線
準シソーラス用語： *X線磁気円二色性

分類 (2件)： 金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D) ,  電気光学効果,磁気光学効果  (BM08020L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 強磁性半導体 ,  Fe ,  Be ,  磁化過程 ,  XMCD ,  研究