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J-GLOBAL ID：201402280684480868   整理番号：14A0756685

両親媒性ブロック共重合体を鋳型とした垂直配向性メソポーラスチタニア膜の調製と応用

著者 (4件)： 小栗良太 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 94th  号： 3  ページ： 779  発行年： 2014年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ポリスチレンとポリエチレンオキシドからなる両親媒性ブロック共重合体を鋳型として,チタンアルコキシドのゾルゲル反応を利用することで,有機・無機複合のスピンコート膜を基板上に調製した。膜表面の原子間力顕微鏡観察の結果,約35nm間隔のドット状モルフォロジーが観測された。膜の斜入射小角X線散乱(GI-SAXS)測定からは,基板面内方向にのみ面間隔35nmの周期構造由来の散乱が観測された。以上の結果から,基板に垂直方向に配向したシリンダー状ナノ構造体の調製に成功した。この複合膜を400°Cにて焼成することで,垂直配向性メソポーラスチタニア膜の調製にも成功した。(著者抄録)

シソーラス用語： *両親媒性高分子 ,  *ブロック共重合体 ,  化学合成 ,  *酸化チタン ,  *ポリスチレン ,  *ポリエチレンオキシド ,  ゾル-ゲル法 ,  *高分子有機-無機ハイブリッド ,  スピンコーティング ,  複合膜 ,  顕微鏡観察 ,  モルフォロジー ,  小角X線散乱 ,  周期構造 ,  面間隔 ,  ナノ構造 ,  焼成 ,  *分子配向 ,  前駆体 ,  可視光 ,  光透過 ,  透過率 ,  トポグラフィー【形態】 ,  *両親媒性ブロック共重合体 ,  鋳型合成 ,  斜入射小角X線散乱 ,  *垂直配向 ,  透明膜 ,  光透過率 ,  *メソポーラス酸化チタン ,  原子間力顕微鏡法
準シソーラス用語： *メソポーラスチタニア ,  原子間力顕微鏡観察

分類 (2件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： チタン(IV)テトライソプロポキシド

タイトルに関連する用語 (6件)： 両親媒性ブロック共重合体 ,  鋳型 ,  垂直配向 ,  メソポーラスチタニア ,  調製 ,  応用