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J-GLOBAL ID：201402281806551199   整理番号：14A0408934

ドロプレット試料導入が自励式高周波電源により発生したICPへ与える影響

Effects of Droplet Introduction into the ICP Sustained by Free-running RF-generator on Plasma Spectroscopic Characteristics

著者 (4件)： 宮原秀一 (東京工業大学大学院総合理工学研究科創造エネルギー専攻) ,  鏑木結貴 (東京工業大学大学院総合理工学研究科創造エネルギー専攻) ,  岩井貴弘 (東京工業大学大学院総合理工学研究科創造エネルギー専攻) ,  沖野晃俊 (東京工業大学大学院総合理工学研究科創造エネルギー専攻)
資料名： 分析化学
巻： 63  号： 2  ページ： 109-117 (J-STAGE)  発行年： 2014年 
JST資料番号： F0008A  ISSN： 0525-1931  CODEN： BNSKAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 溶液試料を0.1~1 nL程度のドロプレットとして誘導結合プラズマ(ICP)の中心軸上に一滴ずつ導入するドロプレット試料導入法では,ドロプレット導入時にICPが不安定になる問題があった.本研究では,過渡的なプラズマへの擾(じょう)乱に強い,自励式高周波電源を用い生成したICPにドロプレット導入を行った.ドロプレット導入がプラズマに与える影響を,自励式高周波電源の発振周波数,プラズマ励起温度の変化から評価したところ,He-ICPではドロプレット導入時に電源の発振周波数が3.4 kHz増加し,Ar-ICPでは17.3 kHz減少した.導入前の周波数に収束するまでにHe-ICPでは24 ms,Ar-ICPでは130 msを要した.プラズマの励起温度は,He-ICPではドロプレット導入直後に励起温度が約3000 K減少し,その後,約4000 K急激に上昇し,ゆっくりと安定状態に収束した.一方,Ar-ICPでは,約500 K上昇した後,1000 K低下する傾向が確認できた.こうしたドロプレット導入時のヘリウム及びアルゴンICPの挙動の差を説明するために,電源,ロードコイル,プラズマを電気的等価回路に置き換え回路シミュレーションを行った.(著者抄録)

シソーラス用語： 液滴 ,  *誘導結合プラズマ ,  試料導入 ,  自励発振 ,  プラズマ温度 ,  *プラズマ生成 ,  *電源装置 ,  アルゴン ,  ヘリウム ,  共振周波数 ,  等価回路 ,  発振周波数 ,  *プラズマ
準シソーラス用語： ICP ,  高周波電源

分類 (2件)： 分析機器  (CC02020S) ,  プラズマ一般  (BJ02010B)

引用文献 (8件)：

• 1) H. Haraguchi : J. Anal. At. Spectrom., 19, 5 (2004).
• 2) 原口紘旡 : 金属,77, 255 (2007).
• 3) 早川慎二郎,鈴木基寛,廣川 健 : X線分析の進歩,34, 133 (2003).
• 4) 宮原秀一,重田香織,中島尚紀,永田洋一,沖野晃俊 : 分析化学 (Bunseki Kagaku), 59, 363 (2010).
• 5) 宮原秀一,鏑木結貴,岩井貴弘,沖野晃俊 : 分析化学 (Bunseki Kagaku), 63, 101 (2014).

タイトルに関連する用語 (4件)： 試料導入 ,  自励 ,  高周波電源 ,  ICP