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J-GLOBAL ID：201402287565931910   整理番号：14A0049611

液晶性アゾベンゼンポリマーの弾性変調による表面微細リンクルパターンの光制御

著者 (5件)： 武島隆宏 (名大 院) ,  LIAO Wan-yu (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本液晶学会討論会講演予稿集(CD-ROM)  (日本液晶学会オンライン研究発表会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 2013  ページ： ROMBUNNO.PB31  発行年： 2013年08月30日 
JST資料番号： L3567B  ISSN： 1880-3490  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 原子移動ラジカル重合 ,  *アゾ化合物 ,  高分子薄膜 ,  *光異性化 ,  弾性係数 ,  *積層構造 ,  *シリコーンゴム ,  *高分子液晶 ,  皺 ,  *圧縮 ,  *パターン形成 ,  転写 ,  グラフト共重合 ,  応答 ,  紫外線照射 ,  芳香族化合物
準シソーラス用語： 光応答 ,  表面リンクル

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (3件)： アゾベンゼン ,  メタクリル酸10-[(4-ペンチルフェニル)アゾオキシ]デシル ,  1-エテニル-4-[8-(ヒドロキシジメチルシリル)-1-オクテニル]-2,3-ビス[10-[(4-ペンチルフェニル)アゾオキシ]デシルオキシ]シクロペンタン

タイトルに関連する用語 (5件)： 液晶 ,  弾性 ,  変調 ,  微細 ,  光制御