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J-GLOBAL ID：201402289321709844   整理番号：14A0720572

液晶性アゾベンゼン高分子の弾性率変化による表面微細リンクルパターンの光制御

著者 (4件)： 武島隆宏 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 63  号： 1  ページ： ROMBUNNO.1PE087  発行年： 2014年05月09日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： エーテル化 ,  *アゾ化合物 ,  原子移動ラジカル重合 ,  *ポリメタクリル酸エステル ,  ランダム共重合体 ,  ケイ素 ,  スピンコーティング ,  *ポリジメチルシロキサン ,  *シリコーンゴム ,  転写 ,  紫外線照射 ,  *光異性化 ,  *高分子液晶 ,  積層材料 ,  加圧 ,  *収縮 ,  *皺 ,  周期構造 ,  原子間力顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  *弾性係数 ,  相転移

分類 (3件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (5件)： 4-シアノビフェニル ,  メタクリル酸デシル ,  メタクリル酸ヘキシル ,  メタクリル酸10-[(4′-ペンチルアゾベンゼン-4-イル)オキシ]デシル ,  メタクリル酸6-[(4′-シアノビフェニル-4-イル)オキシ]ヘキシル

タイトルに関連する用語 (6件)： 液晶 ,  アゾベンゼン ,  高分子 ,  弾性率 ,  微細 ,  光制御