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J-GLOBAL ID：201402297760320174   整理番号：14A1227807

超小角X線散乱法によるポリマーブラシ付与複合微粒子積層膜の構造解析

著者 (13件)： 中西洋平 (京大 化研) ,  石毛亮平 (京大 化研) ,  小川紘樹 (京大 化研) ,  小川紘樹 (JASRI/SPring-8) ,  榊原圭太 (京大 化研) ,  大野工司 (京大 化研) ,  大野工司 (JST-さきがけ) ,  森永隆志 (鶴岡工高専) ,  佐藤貴哉 (鶴岡工高専) ,  佐藤貴哉 (JST-CREST) ,  金谷利治 (京大 化研) ,  辻井敬亘 (京大 化研) ,  辻井敬亘 (JST-CREST)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 63  号： 2  ページ： ROMBUNNO.1PC025  発行年： 2014年09月03日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *小角X線散乱 ,  *高分子ブラシ ,  *多層膜 ,  *結晶構造解析 ,  *結晶構造 ,  イオン液体 ,  ナノ複合材料 ,  すれすれ入射 ,  ポリメタクリル酸エステル ,  高分子電解質 ,  高分子有機-無機ハイブリッド ,  リビングラジカル重合 ,  膨潤 ,  イオン対 ,  対イオン効果 ,  アニオン ,  *超小角X線散乱 ,  斜入射小角X線散乱
準シソーラス用語： GISAXS ,  ポリマーブラシ ,  積層膜

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (4件)： ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミンアニオン ,  メタクリル酸2-(ジエチルアミノ)エチル ,  N-[2-(メタクリロイルオキシ)エチル]-N-メチルジエチルアミニウム・ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミンアニオン ,  N-(2-メトキシエチル)-N-メチルジエチルアミニウム・ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミンアニオン

タイトルに関連する用語 (5件)： 小角X線散乱 ,  ポリマーブラシ ,  微粒子 ,  積層膜 ,  構造解析