特許

J-GLOBAL ID：201403021335296420

多孔質構造体、該多孔質構造体を利用したガス分離フィルタおよびその製造方法

発明者： 磯部 敏宏 ,  西村 正輝 ,  中島 章
出願人/特許権者： 国立大学法人東京工業大学
代理人 (1件)： 特許業務法人エム・アイ・ピー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-204401
公開番号（公開出願番号）：特開2014-057921
出願日： 2012年09月18日
公開日（公表日）： 2014年04月03日
要約：

【課題】本発明は、工業的な実用化レベルの優れたガス透過性を備える新規なガス分離フィルタを提供することを目的とする。【解決手段】本発明によれば、所定のガス分子に対して選択的な親和性を発現するように表面修飾可能な細孔を有する多孔質構造体であって、前記細孔の平均細孔径が前記ガス分子の平均自由行程よりも十分に小さいことを特徴とする多孔質構造体が提供され、前記多孔質構造体を利用して形成されるガス分離フィルタであって、前記細孔が分離対象のガス分子に対して選択的な親和性を発現するように表面修飾されていることを特徴とするガス分離フィルタおよびその製造方法が提供される。本発明のガス分離フィルタは、優れたガス透過性、耐熱性および耐圧性を備える上に、簡単且つ低コストで製造することができ、また、その大型化も容易であることから、工業的な用途に非常に適している。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

所定のガス分子に対して選択的な親和性を発現するように表面修飾可能な細孔を有する多孔質構造体であって、 前記細孔の平均細孔径が前記ガス分子の平均自由行程よりも十分に小さいことを特徴とする、 多孔質構造体。

IPC (4件)：

B01D 69/00 ,  B01D 71/02 ,  B01D 71/46 ,  C01B 33/157

FI (4件)：

B01D69/00 ,  B01D71/02 500 ,  B01D71/46 ,  C01B33/157

Fターム (33件)：

4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA22 ,  4D006MB04 ,  4D006MC01X ,  4D006MC03 ,  4D006MC50X ,  4D006NA50 ,  4D006NA54 ,  4D006NA61 ,  4D006PA01 ,  4D006PB19 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072BB07 ,  4G072BB15 ,  4G072CC10 ,  4G072GG01 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH19 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ47 ,  4G072MM02 ,  4G072MM31 ,  4G072QQ02 ,  4G072QQ07 ,  4G072TT08 ,  4G072UU11 ,  4G072UU30