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J-GLOBAL ID：201502200415068734   整理番号：15A1132209

高分子薄膜表面への異種高分子のインクジェット描画による高分子界面構築

著者 (4件)： 平川篤史 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  原光生 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 64  号： 2  ページ： ROMBUNNO.2O05  発行年： 2015年08月25日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  *界面 ,  アニーリング【現象】 ,  *変化 ,  *インクジェット印刷 ,  パターン形成 ,  ポリスチレン ,  光架橋 ,  ジブロック共重合体 ,  ポリメタクリル酸エステル ,  側鎖型高分子液晶 ,  ポリジメチルシロキサン ,  ポリエチレンオキシド ,  原子間力顕微鏡 ,  その場観察 ,  マイグレーション【化学物質】 ,  濡れ ,  幅 ,  厚み ,  ラメラ ,  ミクロパターン形成 ,  *ヘテロ界面 ,  線幅
準シソーラス用語： *形状変化

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (1件)： メタクリル酸10-[4-(4-ペンチルフェニルアゾ)フェノキシ]デシル

タイトルに関連する用語 (6件)： 高分子薄膜 ,  高分子 ,  インクジェット ,  描画 ,  界面 ,  構築