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J-GLOBAL ID：201502201987013520   整理番号：15A0764501

導電性高分子における基板近傍の分子配向

著者 (5件)： 水野佑 (名大 院) ,  大野慶太 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 64  号： 1  ページ： ROMBUNNO.2PC033  発行年： 2015年05月12日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 導電性高分子 ,  *ポリヘキシルチオフェン ,  *分子配向 ,  *高分子薄膜 ,  依存性 ,  *界面 ,  基板 ,  制御 ,  スピンコーティング ,  熱処理 ,  モルフォロジー ,  小角X線散乱 ,  配向制御 ,  斜入射小角X線散乱 ,  *厚み依存性
準シソーラス用語： GISAXS ,  *厚さ依存性

分類 (2件)： その他の高分子材料  (YH07150C) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (3件)： 導電性高分子 ,  近傍 ,  分子配向