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J-GLOBAL ID：201502259367108480   整理番号：15A0725016

PLDネオジム磁石膜のMEMS応用を目指した特性評価

著者 (7件)： 神谷龍彦 (東京工大) ,  藤原良元 (東京工大) ,  土方亘 (東京工大) ,  進士忠彦 (東京工大) ,  押領司学 (長崎大) ,  山下昂洋 (長崎大) ,  中野正基 (長崎大)
資料名： 電磁力関連のダイナミクスシンポジウム講演論文集  (電磁力関連のダイナミックスシンポジウム講演論文集)
巻： 27th  ページ： 471-472  発行年： 2015年05月14日 
JST資料番号： L1079A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *永久磁石 ,  MEMS ,  *キャラクタリゼーション ,  パルスレーザ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  密着性 ,  加工性 ,  形態
準シソーラス用語： *ネオジム磁石 ,  パルスレーザ堆積 ,  加工特性 ,  形状 ,  *特性評価

分類 (1件)： 電磁石  (NA05080G)

タイトルに関連する用語 (5件)： PLD ,  ネオジム磁石 ,  MEMS ,  応用 ,  特性評価