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J-GLOBAL ID：201502270699213167   整理番号：15A0506778

2種類のHigh-k材料とSiO_xを用いた三色超構造の作製

著者 (13件)： 三宅省三 (兵庫県大) ,  豊嶋祐樹 (兵庫県大) ,  上岡聡史 (兵庫県大) ,  堀田育志 (兵庫県大) ,  堀田育志 (JST-CREST) ,  吉田晴彦 (兵庫県大) ,  吉田晴彦 (JST-CREST) ,  新船幸二 (兵庫県大) ,  新船幸二 (JST-CREST) ,  小椋厚志 (明治大) ,  小椋厚志 (JST-CREST) ,  佐藤真一 (兵庫県大) ,  佐藤真一 (JST-CREST)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 62nd  ページ： ROMBUNNO.12A-D8-2  発行年： 2015年02月26日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *誘電材料 ,  *酸化ケイ素 ,  界面 ,  双極子 ,  構造 ,  *パルスレーザ蒸着 ,  *酸化イットリウム ,  *酸化ハフニウム ,  *酸化アルミニウム ,  X線光電子スペクトル ,  容量電圧特性 ,  深さ分析 ,  双極子モーメント ,  ヘテロ界面 ,  界面双極子
準シソーラス用語： *高誘電率材料 ,  超構造

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： high-k材料 ,  三色 ,  作製