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J-GLOBAL ID：201502283377221690   整理番号：15A0716395

液晶性アゾベンゼンポリマーによる表面リンクルの光形状変化

著者 (4件)： 武島隆宏 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 95th  号： 3  ページ： 690  発行年： 2015年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 柔らかい基材に固い薄膜を積層し,横方向から圧縮ひずみを加えると,座屈現象により表面リンクルが形成し,その波長は薄膜と基板のヤング率の比や薄膜の膜厚によって変化することが知られている。本研究では,固い薄膜層に液晶性アゾベンゼン高分子を用いた光相転移によるヤング率変調と物質移動による膜厚変調の2つの異なる方法にて表面リンクル波長の光制御手法を提案する。アゾベンゼン高分子薄膜をPDMS基材に張り付ける転写法により,積層試料を作製した。圧縮により形成したリンクルの紫外光照射による波長変化を観察した。また,膜厚変調を施した薄膜を転写した積層試料を圧縮すると波長の異なるリンクルが交互に生成した。(著者抄録)

シソーラス用語： *高分子液晶 ,  *アゾ化合物 ,  *芳香族化合物 ,  座屈 ,  *表面 ,  歪 ,  波長 ,  薄膜 ,  基板 ,  Young率 ,  膜厚 ,  相転移 ,  光制御 ,  ポリジメチルシロキサン ,  層 ,  紫外線 ,  液晶 ,  微細加工 ,  弾性係数 ,  *皺 ,  *変化 ,  *光 ,  表面構造 ,  圧縮歪 ,  積層 ,  表面レリーフ ,  *アゾベンゼン類 ,  ビフェニル化合物 ,  構造
準シソーラス用語： *アゾベンゼン誘導体 ,  ビフェニル誘導体 ,  *形状変化

分類 (3件)： 高分子の物性一般  (CG02001Z) ,  その他の液晶  (BK03030H) ,  芳香族単環ヒドロキシルアミン及びヒドラジンその他の芳香族単環多窒素直結化合物  (CF05060O)

タイトルに関連する用語 (4件)： 液晶 ,  アゾベンゼン ,  ポリマー ,  形状変化