電界印加によるYO<sub>1.5</sub>-HfO<sub>2</sub>基薄膜の結晶構造変化

清水荘雄; 三村和仙; 片山きりは; 木口賢紀; 赤間章裕; 今野豊彦; 坂田修身; 舟窪浩

文献

J-GLOBAL ID：201602236674030700 整理番号：16A0929838

電界印加によるYO_1.5-HfO₂基薄膜の結晶構造変化

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資料名：
巻： 77th ページ： ROMBUNNO.14a-A23-4 発行年： 2016年09月01日
JST資料番号： Y0055B ISSN： 2758-4704 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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酸化物薄膜

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電界印加によるYO1.5-HfO2基薄膜の結晶構造変化

電界印加によるYO_1.5-HfO₂基薄膜の結晶構造変化