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J-GLOBAL ID：201602239387045987   整理番号：16A0942464

SiにドープされたAsの光電子ホログラフィーによる評価

著者 (10件)： 名取鼓太郎 (東京工大) ,  筒井一生 (東京工大) ,  松下智裕 (高輝度光科学研究セ) ,  室隆桂之 (高輝度光科学研究セ) ,  木下豊彦 (高輝度光科学研究セ) ,  星井拓也 (東京工大) ,  角嶋邦之 (東京工大) ,  若林整 (東京工大) ,  松井文彦 (奈良先端科学技術大学院大) ,  下村勝 (静岡大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 77th  ページ： ROMBUNNO.16a-B10-3  発行年： 2016年09月01日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,  *ドーピング ,  *ヒ素 ,  *ホログラフィー ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： シリコン基板 ,  *光電子ホログラフィー

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  ホログラフィー一般  (BD03071V)

タイトルに関連する用語 (4件)： Si ,  ドープ ,  光電子ホログラフィー ,  評価