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J-GLOBAL ID：201602257274164449   整理番号：16A0444808

スパッタ法による電子強誘電体YbFe₂O₄薄膜の作製と評価

著者 (7件)： 中畑大輝 (岡山大) ,  沼田知也 (岡山大) ,  中西真 (岡山大) ,  狩野旬 (岡山大) ,  狩野旬 (JST-さきがけ) ,  藤井達生 (岡山大) ,  池田直 (岡山大)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2016  ページ： ROMBUNNO.1P027  発行年： 2016年03月01日 
JST資料番号： X0505B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： イッテルビウム化合物 ,  *鉄酸塩 ,  材料 ,  強磁性 ,  強弾性 ,  強誘電性 ,  技術 ,  薄膜 ,  スパッタリング ,  *薄膜成長 ,  スピネル型結晶 ,  微細構造 ,  *誘電体薄膜 ,  酸化物 ,  *マルチフェロイック材料 ,  酸化物薄膜 ,  薄膜技術
準シソーラス用語： 薄膜化技術

分類 (2件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： スパッタ法 ,  電子強誘電体 ,  薄膜 ,  作製 ,  評価