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J-GLOBAL ID：201602282312976583   整理番号：16A1087934

液晶性ブロック共重合体の表面偏析によって形成するポリマーブラシ構造

著者 (4件)： 向井孝次 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 65  号： 2  ページ： ROMBUNNO.3L07  発行年： 2016年08月24日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *表面偏析 ,  高分子ブラシ ,  *ポリマブレンド ,  アゾ化合物 ,  芳香族化合物 ,  *側鎖型高分子液晶 ,  *ポリスチレン ,  小角X線散乱 ,  スメクチック相 ,  *ポリメタクリル酸エステル ,  *共重合体 ,  熱処理 ,  接触角 ,  ホメオトロピック配列 ,  層状組織 ,  *自己組織化 ,  斜入射小角X線散乱 ,  *アゾベンゼン類
準シソーラス用語： GISAXS ,  *アゾベンゼン誘導体

分類 (2件)： 高分子材料一般  (YH07010B) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (3件)： 液晶性ブロック共重合体 ,  表面偏析 ,  ポリマーブラシ