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J-GLOBAL ID:201602284611987799   整理番号:16A1081354

温和な条件下で進行するリグニン由来フェノール類の水素化脱酸素反応

著者 (4件):
資料名:
巻: 118th  ページ: 134  発行年: 2016年09月14日 
JST資料番号: S0874A  ISSN: 1343-9936  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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フェノール類の水素化脱酸素反応が,ゼオライト担持Pt触媒存在下,常圧水素ガス中85-110°Cという温和な条件で進行し,シクロヘキサン類を高収率で与えることがわかった。また,本触媒を適当な修飾剤で表面処理すると生成物の選択性が変化し,Tf2N-アニオンを有するイオン液体で処理した触媒を反応に用いるとベンゼン類が主生成物として得られることを見出した。(著者抄録)
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分類 (3件):
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貴金属触媒  ,  付加反応,脱離反応  ,  芳香族単環フェノール類・多価フェノール 
物質索引 (4件):
物質索引
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タイトルに関連する用語 (3件):
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