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J-GLOBAL ID：201702218596239974   整理番号：17A0689408

表面偏析と自己集合作用を利用した液晶性ポリマーブラシ構造の形成

著者 (4件)： 向井孝次 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 66  号： 1  ページ： ROMBUNNO.3J13  発行年： 2017年05月15日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *表面偏析 ,  自己集合 ,  *高分子液晶 ,  *高分子ブラシ ,  ポリマブレンド ,  界面張力 ,  アゾ化合物 ,  芳香族化合物 ,  ポリメタクリル酸エステル ,  構造形成 ,  小角X線散乱 ,  すれすれ入射 ,  ブロック共重合体 ,  斜入射小角X線散乱 ,  アゾベンゼン類
準シソーラス用語： GISAXS ,  アゾベンゼン誘導体 ,  表面自由エネルギー

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  液晶一般  (BK03010L)

物質索引 (1件)： メタクリル酸12-[4-(4-ペンチルフェニルアゾ)フェノキシ]ドデシル

タイトルに関連する用語 (4件)： 表面偏析 ,  自己集合 ,  液晶性ポリマー ,  ブラシ