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J-GLOBAL ID：201702222054866959   整理番号：17A1141648

エピタキシャルPZT膜におけるマルチドメイン構造と面内歪の緩和

著者 (6件)： 佐藤智也 (東京工大) ,  一ノ瀬大地 (東京工大) ,  三村和仙 (東京工大) ,  清水荘雄 (東京工大) ,  山田智明 (名古屋大) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.8a-A504-5  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ジルコニウム酸チタン酸鉛 ,  *薄膜 ,  *歪 ,  *構造 ,  緩和現象 ,  X線回折 ,  *エピタキシャル膜 ,  *引張歪 ,  *ドメイン構造 ,  *面内歪
準シソーラス用語： *PZT【鉛化合物】 ,  歪緩和

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  無機化合物の結晶構造一般  (BK07001T) ,  誘電体一般  (BM05010F)

タイトルに関連する用語 (6件)： エピタキシャル ,  PZT ,  マルチ ,  ドメイン構造 ,  面内歪 ,  緩和