文献

J-GLOBAL ID：201702223640871378   整理番号：17A0251408

金ナノ粒子プラズモン共鳴吸収による光過熱を用いた高分子薄膜のサブ波長ナノホール加工

著者 (6件)： 村岡景太 (北大 大学院) ,  東海林竜也 (北大 大学院) ,  山田和志 (京都工繊大) ,  喜多村昇 (北大 大学院) ,  坪井泰之 (北大 大学院) ,  坪井泰之 (JST-さきがけ)
資料名： 分子科学討論会講演プログラム&要旨(Web)  (Program & Abstract. Annual Meeting of Japan Society for Molecular Science (Web))
巻： 5th  ページ： ROMBUNNO.4P057 (WEB ONLY)  発行年： 2011年 
JST資料番号： U0350A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  *プラズマ共鳴 ,  *共鳴吸収 ,  過熱 ,  *高分子薄膜 ,  波長 ,  周期構造 ,  *ナノ構造 ,  *細孔 ,  限界 ,  パルス ,  パルスレーザ照射 ,  制御方式 ,  膜 ,  ゾル ,  モルフォロジー ,  表面構造 ,  原子間力顕微鏡 ,  サブ波長 ,  *金ナノ粒子 ,  サブ波長構造 ,  *ナノホール ,  回折限界 ,  ナノ秒パルス ,  自己組織化膜 ,  表面形態 ,  多孔質膜 ,  構造 ,  脂肪族アミン ,  有機ケイ素化合物 ,  第一アミン
準シソーラス用語： *プラズモン共鳴 ,  制御方法 ,  コロイド溶液

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固体プラズマ  (BM02160W)

物質索引 (1件)： 3-アミノプロピルトリエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (6件)： 金ナノ粒子 ,  プラズモン共鳴 ,  過熱 ,  高分子薄膜 ,  サブ波長 ,  ナノホール