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J-GLOBAL ID：201702226931596596   整理番号：17A0951110

MEMS応用を目指したPLD磁石膜の微細形状加工および微細着磁

著者 (11件)： 田中駿也 (東京工大) ,  藤原良元 (東京工大) ,  土方亘 (東京工大) ,  進士忠彦 (東京工大) ,  廣瀧敬士 (長崎大) ,  山下昂洋 (長崎大) ,  柳井武志 (長崎大) ,  中野正基 (長崎大) ,  福永博俊 (長崎大) ,  鈴木健一 (TDK) ,  門田祥悟 (TDK)
資料名： 電磁力関連のダイナミクスシンポジウム講演論文集  (電磁力関連のダイナミックスシンポジウム講演論文集)
巻： 28th  ページ： 56-57  発行年： 2016年05月17日 
JST資料番号： L1079A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *MEMS ,  *パルスレーザ蒸着 ,  *加工 ,  磁化 ,  微細構造 ,  レーザ加熱 ,  磁場 ,  画像 ,  シミュレーション ,  パルス磁場 ,  数値シミュレーション
準シソーラス用語： *PLD【蒸着】 ,  SEM画像 ,  *形状加工 ,  着磁

分類 (1件)： 電磁石  (NA05080G)

タイトルに関連する用語 (7件)： MEMS ,  応用 ,  PLD ,  磁石 ,  微細形状 ,  微細 ,  着磁