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J-GLOBAL ID：201702233580069009   整理番号：17A1140989

スパッタMoS₂膜上ALD-Al₂O₃膜の成長過程観察

著者 (10件)： 谷川晴紀 (東京工大) ,  大橋匠 (東京工大) ,  松浦賢太朗 (東京工大) ,  清水淳一 (東京工大) ,  外山真矢人 (東京工大) ,  早川直希 (東京工大) ,  宗田伊理也 (東京工大) ,  角嶋邦之 (東京工大) ,  筒井一生 (東京工大) ,  若林整 (東京工大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.7p-C11-9  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *スパッタ蒸着 ,  *硫化モリブデン ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  *化学蒸着 ,  *アルミナ ,  *絶縁膜 ,  表面粗さ ,  層状組織 ,  ダングリングボンド
準シソーラス用語： *原子層堆積 ,  層状構造

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： スパッタ ,  MoS2 ,  ALD ,  Al2O3 ,  成長過程 ,  観察