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J-GLOBAL ID：201702238861886054   整理番号：17A0550408

スパッタ堆積MoS₂薄膜の表面粗さスケーリング解析による配向性評価

著者 (9件)： 石原聖也 (明治大) ,  石原聖也 (日本学術振興会) ,  大野文太 (明治大) ,  日比野祐介 (明治大) ,  澤本直美 (明治大) ,  大橋匠 (東京工大) ,  松浦賢太朗 (東京工大) ,  若林整 (東京工大) ,  小椋厚志 (明治大)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 64th  ページ： ROMBUNNO.16p-F203-2  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： スパッタ蒸着 ,  半導体薄膜 ,  *表面粗さ ,  配向 ,  *硫化モリブデン ,  マグネトロンスパッタリング ,  マイグレーション【化学物質】 ,  *薄膜成長 ,  相関長
準シソーラス用語： スパッタ堆積

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (8件)： スパッタ堆積 ,  MoS2 ,  薄膜 ,  表面粗さ ,  スケーリング ,  解析 ,  配向性 ,  評価