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J-GLOBAL ID：201702240157702778   整理番号：17A0550358

ヨウ化銅へのカルコゲン元素ドーピングの影響

著者 (4件)： 小安智士 (東京工大) ,  山口晃 (東京工大) ,  梅澤直人 (NIMS) ,  宮内雅浩 (東京工大)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 64th  ページ： ROMBUNNO.16p-B5-14  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ヨウ化物 ,  *銅化合物 ,  *酸素族元素 ,  *ドーピング ,  *キャリア密度 ,  *Fermi準位 ,  密度汎関数法 ,  *計算 ,  バンドギャップ ,  化学ポテンシャル ,  *ヨウ化銅 ,  *第一原理計算
準シソーラス用語： *カルコゲン ,  密度汎関数理論

分類 (2件)： 半導体結晶の電子構造  (BM02060N) ,  半導体と絶縁体の電気伝導一般  (BM03041P)

タイトルに関連する用語 (4件)： ヨウ化銅 ,  カルコゲン ,  元素 ,  ドーピング