文献

J-GLOBAL ID：201702249157966824   整理番号：17A1541294

レーザー/プラズマ表面付着物マッピング質量分析装置における表面基質の影響調査

著者 (5件)： 相田真里 (東工大 院未来研) ,  岡本悠生 (東工大 院未来研) ,  河野聡史 (東工大 院未来研) ,  宮原秀一 (東工大 院未来研) ,  沖野晃俊 (東工大 院未来研)
資料名： 日本分析化学会年会講演要旨集  (分析化学講演要旨集)
巻： 66th  ページ： 83  発行年： 2017年08月26日 
JST資料番号： G0563B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 写像 ,  表面 ,  *付着物 ,  レーザ ,  プラズマ ,  *脱着 ,  *イオン化 ,  *表面分析 ,  レーザプラズマ ,  *質量分析 ,  低出力レーザ ,  低温プラズマ ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族化合物
準シソーラス用語： マッピング

分類 (2件)： 分析機器  (CC02020S) ,  質量分析  (CC03013N)

物質索引 (2件)： イソプロピルアンチピリン ,  サリチル酸フェニル

タイトルに関連する用語 (7件)： レーザー ,  プラズマ ,  付着物 ,  マッピング ,  質量分析装置 ,  基質 ,  調査