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J-GLOBAL ID：201702281093392619   整理番号：17A0232278

Y₂O₃-HfO₂エピタキシャル薄膜の構成相の決定因子

著者 (6件)： 鈴木大生 (東京工大) ,  三村和仙 (東京工大 大学院総合理工学研究科) ,  清水荘雄 (東京工大) ,  内田寛 (上智大 理工) ,  舟窪浩 (東京工大) ,  舟窪浩 (東京工大 大学院総合理工学研究科)
資料名： セラミックス基礎科学討論会講演要旨集  (Preprints of the Symposium on Basic Science of Ceramics)
巻： 55th  ページ： 69  発行年： 2017年01月12日 
JST資料番号： L1357A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化イットリウム ,  *酸化ハフニウム ,  *セラミック膜 ,  エピタクシー ,  相組成 ,  *スパッタ蒸着 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  パルスレーザ蒸着 ,  誘電体 ,  結晶構造
準シソーラス用語： *RFマグネトロンスパッタリング

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： Y2O3 ,  HfO2 ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  決定因子