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J-GLOBAL ID：201702282977700674   整理番号：17A1300751

液晶性ブロック共重合体が高分子表面で形成するポリマーブラシのパターン構造

著者 (4件)： 向井孝次 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 66  号： 2  ページ： ROMBUNNO.3J07  発行年： 2017年09月06日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *高分子ブラシ ,  高分子薄膜 ,  *側鎖型高分子液晶 ,  *ジブロック共重合体 ,  ポリスチレン ,  ポリアクリル酸エステル ,  原子移動ラジカル重合 ,  スメクチック相 ,  転写 ,  多層膜 ,  パターン形成 ,  自己集合 ,  顕微鏡観察 ,  表面偏析 ,  脱濡れ ,  二重層
準シソーラス用語： 二層膜

分類 (2件)： 高分子の立体構造  (CG02031G) ,  その他の液晶  (BK03030H)

物質索引 (1件)： アクリル酸12-[(4′-シアノビフェニル-4-イル)オキシ]ドデシル

タイトルに関連する用語 (3件)： 液晶性ブロック共重合体 ,  高分子表面 ,  ポリマーブラシ