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J-GLOBAL ID：201702285777600345   整理番号：17A1541289

デュアルプラズマ表面付着物分析装置における表面基質の影響調査

著者 (4件)： 岡本悠生 (東工大 未来産技研) ,  相田真里 (東工大 未来産技研) ,  宮原秀一 (東工大 未来産技研) ,  沖野晃俊 (東工大 未来産技研)
資料名： 日本分析化学会年会講演要旨集  (分析化学講演要旨集)
巻： 66th  ページ： 80  発行年： 2017年08月26日 
JST資料番号： G0563B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： プラズマ ,  *プラズマ脱離質量分析 ,  *イオン化 ,  依存性 ,  表面 ,  *付着物 ,  *表面分析 ,  低温プラズマ ,  基質依存性 ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族化合物

分類 (2件)： 有機化合物の物理分析  (CC03034A) ,  分子と光子の相互作用  (BH06120R)

物質索引 (2件)： サリチル酸フェニル ,  イソプロピルアンチピリン

タイトルに関連する用語 (6件)： デュアル ,  プラズマ ,  付着物 ,  分析装置 ,  基質 ,  調査