文献

J-GLOBAL ID：201802275292859502   整理番号：18A2006778

くし形高分子薄膜の加湿アニールによるラメラ構造形成とその機構解明

Lamellar film formation in comb-shape polymers by humid annealing

著者 (5件)： 伊藤祥穂 ,  松井淳 ,  山本俊介 ,  三ツ石方也 ,  永野修作
資料名： 日本液晶学会討論会講演予稿集(CD-ROM)  (日本液晶学会オンライン研究発表会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 2018  ページ： ROMBUNNO.1B04  発行年： 2018年08月20日 
JST資料番号： L3567B  ISSN： 1880-3490  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  *くし状重合体 ,  *層状組織 ,  焼なまし ,  加湿 ,  ブロック共重合体 ,  自己組織化 ,  相分離 ,  アルキル基 ,  側鎖 ,  示差走査熱量測定 ,  X線散乱 ,  スピンコーティング

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： N-ドデシルアクリルアミド

タイトルに関連する用語 (5件)： くし形 ,  高分子薄膜 ,  加湿 ,  アニール ,  ラメラ構造