特許
J-GLOBAL ID：201803000346133878
塗布処理装置、清掃処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
金本 哲男
, 亀谷 美明
, 萩原 康司
, 扇田 尚紀
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-092815
公開番号（公開出願番号）：特開2015-208727
特許番号：特許第6290700号
出願日： 2014年04月28日
公開日（公表日）： 2015年11月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基板に塗布液を吐出する吐出口が下面に形成された、前記基板の幅方向に延伸するノズルと、前記ノズルの下面及び前記下面に隣接する隣接面に当接可能な形状を有し、前記ノズルの清掃を行うパッドと、前記パッドと前記ノズルとを前記ノズルの長手方向に沿って相対的に移動させるパッド移動機構と、前記ノズルと前記パッドとを相対的に上下方向移動させる相対移動機構とを備えた、基板に塗布液を塗布する塗布処理装置であって、
前記パッドを前記ノズルに対して押圧する押圧機構を有し、
前記押圧機構は、
上部が開口した筒形状のシリンダ部と、前記シリンダ部の開口を塞ぐように設けられた押圧部材を有し、前記パッドの下面を前記押圧部材で支持し、前記シリンダ部と前記押圧部材で囲まれた空間内に作動流体が所定の圧力で流入されていることを特徴とする、塗布処理装置。
IPC (3件)：
B05C 11/10 ( 200 6.01)
, B05C 5/02 ( 200 6.01)
, B05D 1/26 ( 200 6.01)
B05C 11/10
, B05C 5/02
, B05D 1/26 Z
