特許
J-GLOBAL ID：201803013347486329
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
中尾 俊輔
, 伊藤 高英
, 前野 房枝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-010813
公開番号（公開出願番号）：特開2016-129138
特許番号：特許第6224139号
出願日： 2016年01月22日
公開日（公表日）： 2016年07月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 内部にプラズマが生成される第1筒状部と、
前記第1筒状部の両端部にそれぞれ設けられ、内部にプラズマ生成用ガスを導入するプラズマ生成用ガス導入部と、
前記第1筒状部の少なくとも1箇所に対して直交して貫通するように一体に形成され、電気伝導性材料からなる長尺状の被処理物が内部に送通される第2筒状部と、
前記第1筒状部の前記第2筒状部が交差する両側の長手方向の外周面に少なくとも2個以上ずつ設けられたリング状電極とを備え、
前記リング状電極のうち、前記第2筒状部が交差している部分の両側に隣接するそれぞれ1個の前記リング状電極が接地されており、互いに隣接する接地されていない前記リング状電極と接地されている前記リング状電極との間においてのみ電界を形成することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/24 ( 200 6.01)
, B01J 19/08 ( 200 6.01)
, D06B 19/00 ( 200 6.01)
H05H 1/24
, B01J 19/08 E
, D06B 19/00 E
