文献

J-GLOBAL ID：201902229674065506   整理番号：19A2598978

スパッタMoS₂膜のCl₂プラズマ処理によるシート抵抗低減

著者 (10件)： 濱田拓也 (東京工大) ,  堀口大河 (東京工大) ,  辰巳哲也 (東工大 地球インクルーシブセンシング研究機構) ,  冨谷茂隆 (東工大 地球インクルーシブセンシング研究機構) ,  濱田昌也 (東京工大) ,  星井拓也 (東京工大) ,  角嶋邦之 (東京工大) ,  筒井一生 (東京工大) ,  若林整 (東京工大) ,  若林整 (東工大 地球インクルーシブセンシング研究機構)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 80th  ページ： ROMBUNNO.19a-E308-2  発行年： 2019年09月04日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 【背景】熱電素子応用に向けて2次元層状半導体が期待されており[1]、1019 cm-3前後のキャリア密度で変換効率が最大となるため、n及びp型領域の高精度形成技術が必要である。そこでMoS2膜を用いた場合、塩素の吸着によるn型ドーピングが報...【本文一部表示】

シソーラス用語： *硫化モリブデン ,  *スパッタリング ,  プラズマ処理 ,  *シート抵抗 ,  塩素 ,  熱安定性 ,  半導体薄膜

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (4件)： スパッタ ,  MoS2 ,  プラズマ処理 ,  抵抗低減