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J-GLOBAL ID：201902231104823403   整理番号：19A2432528

気水界面での表面圧変化によってヘリシティーを制御できる両親媒性キラルsalen錯体の開発

著者 (11件)： 高橋瑞歩 (金沢大 大学院) ,  野村慶介 (金沢大 大学院) ,  酒田陽子 (金沢大 大学院) ,  酒田陽子 (金沢大) ,  中西和嘉 (物質・材料研究機構) ,  森泰蔵 (物質・材料研究機構) ,  森泰蔵 (東大 大学院) ,  有賀克彦 (物質・材料研究機構) ,  有賀克彦 (東大 大学院) ,  秋根茂久 (金沢大 大学院) ,  秋根茂久 (金沢大)
資料名： 錯体化学会討論会講演要旨集  (Book of Abstracts. Conference of JSCC)
巻： 69th  ページ： 249  発行年： 2019年09月02日 
JST資料番号： G0400B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 親水性トリエチレングリコール鎖と疎水性螺旋コアを有する...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： 気液界面 ,  表面圧 ,  *ヘリシティ ,  Schiff塩基錯体 ,  不均一系反応 ,  円偏光二色スペクトル ,  ニッケル錯体 ,  亜鉛錯体 ,  薄膜 ,  *ランタン錯体 ,  *圧力効果 ,  分子構造 ,  キラル錯体 ,  サレン錯体 ,  界面反応 ,  両親媒性化合物 ,  脂肪酸 ,  薬物

分類 (2件)： 第3族元素の錯体  (CE01060J) ,  液-気界面  (CB12020U)

物質索引 (1件)： 酢酸

タイトルに関連する用語 (7件)： 気水界面 ,  表面圧 ,  ヘリシティー ,  両親媒性 ,  キラル ,  錯体 ,  開発