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J-GLOBAL ID：201902240931379935   整理番号：19A1174063

気水界面における表面圧変化を利用した両親媒性らせん型錯体のヘリシティー制御

著者 (11件)： 高橋瑞歩 (金沢大 大学院) ,  野村慶介 (金沢大 大学院) ,  酒田陽子 (金沢大 大学院) ,  酒田陽子 (金沢大 WPI-Nano LSI) ,  中西和嘉 (物質・材料研究機構) ,  森泰蔵 (物質・材料研究機構) ,  森泰蔵 (東大 大学院) ,  有賀克彦 (物質・材料研究機構) ,  有賀克彦 (東大 大学院) ,  秋根茂久 (金沢大 大学院) ,  秋根茂久 (金沢大 WPI-Nano LSI)
資料名： ホスト-ゲスト・超分子化学シンポジウム講演要旨集  (ホスト-ゲスト・超分子化学シンポジウムプログラム予稿集)
巻： 17th  ページ： 99  発行年： 2019年05月18日 
JST資料番号： F1825A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 外部刺激による人工らせん分子のヘリシティー制御は様々な方法で達成されている。たとえば我々は分子認識に伴う置換基間距離の変化に応じて、ヘリシティーの反転が起こる系を報告している[1]。また有賀らは、両親媒性ビナフチル分子を気水界面に配列させ、...【本文一部表示】

シソーラス用語： *気液界面 ,  *表面圧 ,  ヘリシティ ,  *ヘリックス構造 ,  コバルト錯体 ,  ニッケル錯体 ,  銅錯体 ,  亜鉛錯体 ,  バリウム錯体 ,  ランタン錯体 ,  錯体生成 ,  多核錯体 ,  円偏光二色スペクトル ,  圧力効果 ,  *遷移金属錯体 ,  四核錯体 ,  単分子膜 ,  両親媒性化合物 ,  脂肪酸 ,  薬物

分類 (2件)： 遷移金属錯体一般  (CE01040N) ,  液-気界面  (CB12020U)

物質索引 (3件)： 酢酸 ,  (1R,2R)-1,2-ビス[2,3-ビス[2-[2-(2-ヒドロキシエトキシ)エトキシ]エトキシ]フェニル]-1,2-ビス[[(4-ヒドロキシフェナントレン-3-イル)メチレン]アミノ]エタン ,  (1R,2R)-1,2-ビス[2-[2-[2-(2-ヒドロキシエトキシ)エトキシ]エトキシ]-3-メトキシフェニル]-1,2-ビス[[(4-ヒドロキシフェナントレン-3-イル)メチレン]アミノ]エタン

タイトルに関連する用語 (6件)： 気水界面 ,  表面圧 ,  両親媒性 ,  らせん型 ,  錯体 ,  ヘリシティー