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J-GLOBAL ID：202002234806949935   整理番号：20A0363669

かさ高く剛直な有機構造規定剤を用いたリン修飾AFXゼオライトの合成

著者 (9件)： 土谷和愛 (広島大) ,  津野地直 (広島大) ,  中澤直人 (横浜国大) ,  窪田好浩 (横浜国大) ,  西鳥羽俊貴 (東京工大) ,  横井俊之 (東京工大) ,  大西武士 (東大) ,  小倉賢 (東大) ,  佐野庸治 (広島大)
資料名： ゼオライト研究発表会講演予稿集
巻： 35th  ページ： 38  発行年： 2019年12月05日 
JST資料番号： L1365A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 1.緒言.ゼオライトへのリン修飾は主にリン酸やリン酸塩の含浸によって行われ、骨格Al酸点上の橋掛け水酸基の被覆によって、特異な酸性質や高い水熱安定性が発現することが知られている[1]。一方で、最近我々は一般的な窒素含有有機構造規定剤(N-O...【本文一部表示】

シソーラス用語： *合成ゼオライト ,  *ホージャサイト ,  *試薬 ,  結晶構造 ,  *鋳型反応 ,  *窒素複素環化合物 ,  *ホスホニウム ,  臭化物 ,  *アンモニウム化合物 ,  水酸化物 ,  水酸化ナトリウム ,  熱処理 ,  *水熱合成 ,  *焼成 ,  化学合成 ,  水熱処理 ,  *有機構造規定剤 ,  *ピロリジン類
準シソーラス用語： *AFX型ゼオライト ,  FAUゼオライト ,  TEPBr ,  TMPOH ,  テトラエチルホスホニウムブロミド ,  テトラメチルホスホニウムヒドロキシド ,  *ピロリジン誘導体

分類 (2件)： 合成鉱物  (CD01040K) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

物質索引 (1件)： テトラメチルアンモニウムヒドロキシド

タイトルに関連する用語 (4件)： かさ ,  有機構造規定剤 ,  リン ,  修飾