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J-GLOBAL ID：202002247154041912   整理番号：20A1549050

気水界面での力学的圧縮操作による両親媒性キラルsalen錯体のヘリシティー制御

Helicity Control of Amphiphilic Chiral Salen Complexes by Mechanical Compression at the Air-Water Interface

著者 (10件)： 高橋瑞歩 (金沢大 大学院) ,  酒田陽子 (金沢大 大学院) ,  酒田陽子 (金沢大 NanoLSI) ,  中西和嘉 (物材機構 RCFM) ,  森泰蔵 (物材機構 MANA) ,  森泰蔵 (東大 大学院) ,  有賀克彦 (物材機構 MANA) ,  有賀克彦 (東大 大学院) ,  秋根茂久 (金沢大 大学院) ,  秋根茂久 (金沢大 NanoLSI)
資料名： 日本化学会春季年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 100th  ページ： ROMBUNNO.3B6-53  発行年： 2020年03月05日 
JST資料番号： S0493B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 親水性のTEG鎖と疎水性のらせん型錯体部位をもつ両親媒性分子を合成した。これらの分子を気水界面に配列させ膜を作り,膜に圧縮操作を施すことによってらせん型錯体部位のヘリシティー制御を試みた。π-A曲線の測定を行い,各錯体が気水界面に膜を形成することを確認した後,膜を石英基板に転写してCDスペクトルの測定を行った。その結果,Zn₃La型salen錯体において,膜に加えられる表面圧が増加するとCDシグナルが増大する現象が確認できた。(著者抄録)

シソーラス用語： *Schiff塩基錯体 ,  亜鉛錯体 ,  ヘリシティ ,  化合物 ,  気液界面 ,  製膜 ,  圧縮 ,  *サレン錯体 ,  両親媒性化合物 ,  気水界面
準シソーラス用語： 気/水界面 ,  膜生成

分類 (2件)： 第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y) ,  液-気界面  (CB12020U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 気水界面 ,  力学 ,  両親媒性 ,  キラル ,  錯体 ,  ヘリシティー