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J-GLOBAL ID：202002267673292791   整理番号：20A0844733

WolterIII型Advanced KBミラーを用いたX線自由電子レーザーsub-10nm集光システムの開発(第2報)-高反射率多層膜の作製と差分成膜による形状修正-

著者 (12件)： 井上陽登 (大阪大 大学院工学研究科) ,  松山智至 (大阪大 大学院工学研究科) ,  山田純平 (理研 播磨研) ,  中村南美 (大阪大 大学院工学研究科) ,  大坂泰斗 (理研 播磨研) ,  湯本博勝 (高輝度光科学研究セ) ,  小山貴久 (高輝度光科学研究セ) ,  大橋治彦 (高輝度光科学研究セ) ,  矢橋牧名 (理研 播磨研) ,  矢橋牧名 (高輝度光科学研究セ) ,  石川哲也 (理研 播磨研) ,  山内和人 (大阪大 大学院工学研究科)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2020  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.G33  発行年： 2020年03月01日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： X線自由電子レーザーは超高ピーク強度を有しており,更なる高度利用化に向けた集光技術の発展が望まれる.非線形X線光学現象を開拓するためには,高いスループットと理想的な集光を実現する光学系を構築することが必要不可欠である.我々は,重元素の膜厚を薄くすることで高い反射率を有する多層膜ミラーを作製した.またミラーの形状誤差を差分成膜により修正し,多層膜ミラーの集光効率を向上させることに成功した.(著者抄録)

シソーラス用語： X線自由電子レーザ ,  *反射鏡 ,  *反射率 ,  形態 ,  収集 ,  *X線反射率 ,  表面形状 ,  *多層膜鏡
準シソーラス用語： Wolterミラー ,  集光性 ,  *多層膜ミラー

分類 (1件)： X線技術  (BA02060D)

引用文献 (9件)：

• H. Mimura et al., Nat. Commun., 5, 3539 (2014)
• R. Kodama et al., Opt. Lett., 21, (1996) 1321
• J. Yamada, et al. Opt. Express, 27, 3429 (2019)
• M. Born and E. Wolf, Principles of Optics 7th ed., 草川徹訳,光学の原理 第7版 II,東海大学出版会, 298 (2006)
• 井上陽登 他,2019年度精密工学会秋季大会学術講演会,

タイトルに関連する用語 (10件)： ミラー ,  X線自由電子レーザー ,  集光 ,  開発 ,  高反射率 ,  多層膜 ,  作製 ,  差分 ,  成膜 ,  形状修正