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J-GLOBAL ID：202002281108367718   整理番号：20A0212147

加湿下でのアニールにより形成されるアルキルアクリルアミド高分子のラメラ構造

Lamellar film formation of poly(N-alkyl acrylamides) by humid annealing

著者 (4件)： 松井淳 ,  永野修作 ,  山本俊介 ,  三ツ石方也
資料名： 日本液晶学会討論会講演予稿集(CD-ROM)  (日本液晶学会オンライン研究発表会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 2019  ページ： ROMBUNNO.3B06  発行年： 2019年08月19日 
JST資料番号： L3567B  ISSN： 1880-3490  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 著者らは,ポリ(N-ドデシルアクリルアミド)膜が湿潤条件でのアニーリングによりラメラ構造を形成することを報告した。本研究では,種々...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： *高分子液晶 ,  層状組織 ,  カルボアミド ,  不飽和カルボン酸 ,  *共重合体 ,  X線回折 ,  ミクロ相分離 ,  焼なまし ,  *ラメラ ,  アクリルアミド類 ,  ナノ相分離
準シソーラス用語： *液晶高分子 ,  層状構造 ,  XRD ,  アニール

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  その他の液晶  (BK03030H)

タイトルに関連する用語 (4件)： 加湿 ,  アニール ,  高分子 ,  ラメラ構造