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J-GLOBAL ID：202002293527306853   整理番号：20A0506186

パルスレーザー堆積法を用いたLiCuTa₃O₉薄膜の作製と第一原理計算による構造最適化

著者 (5件)： 大橋孔太郎 (東京工大) ,  山本一理 (東京工大) ,  重松圭 (東京工大) ,  DAS Hena (東京工大) ,  東正樹 (東京工大)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2019  ページ： ROMBUNNO.3J17  発行年： 2019年03月01日 
JST資料番号： X0505B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： LiCuTa3O9のLi,Cu及び空孔秩序状態のエネルギー安定性をab initio計算に...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： *パルスレーザ蒸着 ,  タンタル酸塩 ,  リチウム化合物 ,  銅化合物 ,  *薄膜 ,  第一原理 ,  計算 ,  *構造最適化 ,  数値解析 ,  プログラムパッケージ ,  密度汎関数法 ,  エピタクシー ,  リチウム二次電池 ,  *固体電解質 ,  イオン伝導体 ,  *改変
準シソーラス用語： Aサイト秩序構造 ,  GGA+U ,  VASP【計算機プログラム】 ,  タンタル酸リチウム銅

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y) ,  二次電池  (YB04030K)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルスレーザー堆積法 ,  薄膜 ,  作製 ,  第一原理計算 ,  構造最適化