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J-GLOBAL ID：202102235972543413   整理番号：21A2280650

Co置換BiFeO₃薄膜における電場印加磁化反転

Magnetization Reversal by Electric Field in Co-substituted BiFeO₃ Thin Film

著者 (9件)： 東正樹 (東京工大 フロンティア材料研) ,  東正樹 (神奈川県産業技総研) ,  清水啓佑 (東京工大 フロンティア材料研) ,  勝俣真綸 (東京工大 フロンティア材料研) ,  小澤慶太 (東京工大 フロンティア材料研) ,  重松圭 (東京工大 フロンティア材料研) ,  重松圭 (神奈川県産業技総研) ,  北條元 (九大) ,  壬生攻 (名古屋工大)
資料名： ナノ学会大会講演予稿集  (ナノ学会大会)
巻： 19th  ページ： 20  発行年： 2021年05月10日 
JST資料番号： L3641B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 磁化の電場操作は,低電力消費不揮発性磁気メモリデバイ...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： *ビスマス化合物 ,  *フェライト ,  *鉄化合物 ,  *磁性薄膜 ,  コバルト化合物 ,  電場効果 ,  *磁化反転 ,  強磁性 ,  強誘電性 ,  孤立電子対 ,  立体障害 ,  立方晶系 ,  自発分極 ,  磁気モーメント ,  スピン ,  変調構造 ,  誘電分極 ,  分極反転 ,  自発磁化 ,  レーザアブレーション ,  力顕微鏡 ,  磁気力顕微鏡 ,  弱い強磁性 ,  アルミナ ,  ナノ構造 ,  サイクロイド ,  ドメイン構造 ,  ナノドット ,  マルチフェロイック材料 ,  圧電応答力顕微鏡 ,  *ビスマスフェライト ,  陽極酸化アルミニウム
準シソーラス用語： マルチフェロイック物質 ,  圧電応答顕微鏡 ,  鉄酸コバルト酸ビスマス ,  *鉄酸ビスマス ,  電圧印加 ,  電気分極 ,  陽極酸化アルミナ

分類 (3件)： 磁性材料  (NA04040H) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (6件)： CO ,  置換 ,  BiFeO3 ,  薄膜 ,  電場印加 ,  磁化反転