解析方法、解析プログラム、および解析装置

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 大浪一徳 , 伏見俊介 , 西澤和純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-156441
公開番号（公開出願番号）：特開2018-025434
特許番号：特許第6792859号
出願日： 2016年08月09日
公開日（公表日）： 2018年02月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】第1周波数の交流電気信号を第1コイルに印加して解析対象を励磁し、前記解析対象に第1渦電流を生成し、前記第1渦電流により発生した磁界により第2コイルに発生した電圧に応じた第1電気的状態量を測定し、第2周波数の交流電気信号を前記第1コイルに印加して前記解析対象を励磁し、前記解析対象に第2渦電流を生成し、前記第2渦電流により発生した磁界により前記第2コイルに発生した電圧に応じた第2電気的状態量を測定し、前記第1電気的状態量および前記第2電気的状態量に基づいて、前記解析対象の厚さ方向の特性を解析する、解析方法であって、前記第1周波数および前記第2周波数は、前記解析対象と同じ材料であり且つ厚さ方向の特性が互いに異なる複数の試験体の各々に対して試験を行うことで設定され、前記試験は、周波数を連続的に変化させた交流電気信号を前記第1コイルに印加して前記複数の試験体の各々を励磁し、前記複数の試験体の各々に渦電流を生成し、前記複数の試験体の各々について、前記渦電流により発生した磁界により前記第2コイルに発生した電圧を検出し、前記周波数の各々における、前記複数の試験体の各々について検出された前記電圧を比較することで、前記第1周波数および前記第2周波数を設定する、解析方法。

IPC (3件)：

G01N 27/72 ( 200 6.01) , G01N 27/90 ( 200 6.01) , G01B 7/06 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G01N 27/72 , G01N 27/90 , G01B 7/06 M

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開昭63-139202
膜厚測定装置、及び膜厚測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-027764 出願人：株式会社東京精密
表面処理評価装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-048519 出願人：株式会社豊田中央研究所

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