特許

J-GLOBAL ID：202103008355688811

母型の製造方法

発明者： 高橋 哲 ,  鈴木 裕貴 ,  鈴木 邦和 ,  道畑 正岐 ,  高増 潔 ,  田中 大直 ,  西村 涼
出願人/特許権者： 国立大学法人 東京大学
代理人 (1件)： 川北 喜十郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-535554
特許番号：特許第6808155号
出願日： 2016年08月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 光硬化材料を該光硬化材料より高い屈折率を有する高屈折率媒質上に供給して光硬化材料膜を形成することと、 前記高屈折率媒質と前記光硬化材料膜の界面における所定領域に、前記高屈折率媒質側から複数の光束を、互いに異なる入射方向で且つ臨界角以上の入射角度で照射し、それにより発生した複光束干渉エバネッセント波により前記所定領域近傍の前記光硬化材料膜を硬化させることとを含む凹凸パターンを有する母型の製造方法。

IPC (3件)：

B29C 33/38 ( 200 6.01) ,  B29C 59/02 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (3件)：

B29C 33/38 ,  B29C 59/02 Z ,  H01L 21/30 502 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 大面積ナノパターン形成方法および装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2010-543093   出願人：ローイスインコーポレイテッド
• 光硬化性樹脂の微細加工方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-306214   出願人：国立大学法人静岡大学
• 光造形方法、及び光造形装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-051879   出願人：国立大学法人東京大学