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J-GLOBAL ID：202202273216325224   整理番号：22A0824750

湿度誘起相転移法によるナノ周期構造の新しいパターニング手法の開発

Development of Nanopatterning Method Using Humidity-Induced Liquid Crystalline Phase Transition

著者 (5件)： 原光生 (名大 院) ,  折戸大輝 (名大 院) ,  脇谷尚幸 (名大 院) ,  永野修作 (立教大 理) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(Web)
巻： 34th  ページ： ROMBUNNO.1U02 (WEB ONLY)  発行年： 2021年08月16日 
JST資料番号： L2240C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 周期構造 ,  ナノ構造 ,  *パターン形成 ,  吸湿性 ,  *リオトロピック液晶 ,  自己集合 ,  *構造相転移 ,  複合材料 ,  *有機-無機ハイブリッド ,  ポリシロキサン ,  重縮合 ,  高分子膜 ,  相対湿度 ,  アミン ,  含水量 ,  製膜 ,  優先配向 ,  光照射 ,  フォトマスク ,  複屈折 ,  異方性 ,  依存性 ,  エン反応 ,  ゾル-ゲル法 ,  スピンコーティング ,  チオール-エン反応 ,  湿度依存性 ,  マスク

分類 (2件)： 液晶一般  (BK03010L) ,  高分子の物性一般  (CG02001Z)

タイトルに関連する用語 (7件)： 湿度 ,  誘起 ,  相転移 ,  周期構造 ,  パターニング ,  手法 ,  開発