特許
J-GLOBAL ID：202203010766108940
光触媒体試験用ホルダ
出願人/特許権者：
国立大学法人東京工業大学
,
国立大学法人東京工業大学 について
代理人 (2件)： 西村 教光 , 鈴木 典行
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-156558
公開番号（公開出願番号）：特開2020-028864
特許番号：特許第7168165号
出願日： 2018年08月23日
公開日（公表日）： 2020年02月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】酸化チタン、チタン酸ストロンチウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化銅、酸化鉄、酸化スズ、酸化セリウム、酸化ビスマス、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化タンタル、バナジン酸ビスマス、鉄・カルシウム酸化物からなる群より選択される少なくとも一つの酸化物、硫化亜鉛、硫化カドミウム、硫化スズ、硫化銅、硫化鉛、硫化銀、硫化インジウム、硫化ビスマス、銅亜鉛スズ系硫化物からなる群より選択される少なくとも一つの硫化物、前記酸化物と前記硫化物の複合体の何れかの材料からなる板状の隔壁を境に、アノード用助触媒が担持された光触媒体が収容されるアノード側気密空間と、カソード用助触媒が担持された光触媒体が収容されるカソード側気密空間が形成される筐体と、 前記アノード側気密空間内で前記光触媒体が酸化反応するための光を透過させるアノード側透過窓と、 前記カソード側気密区間内で前記光触媒体が還元反応するための光を透過させるカソード側透過窓と、 前記アノード側気密空間に酸化ガスを供給するアノード側ガス供給部と、 前記アノード側気密空間内の酸化反応により改質されたガスを前記アノード側気密空間内から排出させるアノード側ガス排出部と、 前記カソード側気密空間内に還元ガスを供給するカソード側ガス供給部と、 前記カソード側気密空間内の還元反応により改質されたガスを前記カソード側気密空間内から排出させるカソード側ガス排出部と、 を備えることを特徴とする光触媒体試験用ホルダ。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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