スパッタリング法によるHfO<sub>2</sub>-CeO<sub>2</sub>強誘電体厚膜の非加熱合成

茶谷那知; 平井浩司; 安岡慎之介; 岡本一輝; 山岡和希子; 井上ゆか梨; 舟窪浩

文献

J-GLOBAL ID：202302214098489166 整理番号：23A2513117

スパッタリング法によるHfO₂-CeO₂強誘電体厚膜の非加熱合成

No heating deposition of HfO₂-CeO₂ ferroelectric thick films by sputtering method

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巻： 70th ページ： ROMBUNNO.15p-A404-2 発行年： 2023年02月27日
JST資料番号： Y0054B ISSN： 2758-4704 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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固体デバイス製造技術一般 , 固体プラズマ , バイオアッセイ , 抗原・抗体・補体一般

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スパッタリング法によるHfO2-CeO2強誘電体厚膜の非加熱合成

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