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J-GLOBAL ID：202302214724350832   整理番号：23A2377068

水熱法で低温作製したPbTiO₃エピタキシャル膜のドメイン構造の特徴

Characterization of the Domain structure of epitaxial PbTiO₃ films grown at low deposition temperature by hydrothermal method

著者 (5件)： HU Y. (東京工大) ,  岡本一輝 (東京工大) ,  窪田るりか (東京工大) ,  白石貴久 (東京工大) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(Web)
巻： 2023  ページ： ROMBUNNO.2J31 (WEB ONLY)  発行年： 2023年03月01日 
JST資料番号： X0505C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 薄膜成長 ,  誘電体薄膜 ,  *チタン酸鉛 ,  水熱合成 ,  化学合成 ,  結晶構造 ,  結晶方位 ,  *強誘電体薄膜 ,  エピタキシャル膜 ,  低温合成 ,  *ドメイン構造
準シソーラス用語： 水熱法 ,  結晶配向 ,  逆格子マッピング

分類 (1件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

タイトルに関連する用語 (5件)： 水熱法 ,  低温 ,  作製 ,  エピタキシャル膜 ,  ドメイン構造