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J-GLOBAL ID：202302216260290408   整理番号：23A0204804

水素ガス熱処理が(Al,Sc)N薄膜の強誘電特性へ及ぼす影響

The influence of heat treatment under H₂ atmosphere on ferroelectricity of (Al, Sc)N thin films

著者 (7件)： 岡本一輝 (東京工大) ,  安岡慎之介 (東京工大) ,  大田怜佳 (東京工大) ,  舟窪浩 (東京工大) ,  松井尚子 (キヤノンアネルバ) ,  入澤寿和 (キヤノンアネルバ) ,  恒川孝二 (キヤノンアネルバ)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 83rd  ページ： ROMBUNNO.20p-B103-8  発行年： 2022年08月26日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

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シソーラス用語： X線回折 ,...

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分類 (1件)： 生物物理的研究法  (EA03020V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 水素ガス ,  熱処理 ,  Al ,  Sc ,  薄膜 ,  強誘電特性